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ASTM E1438-1991(2001) 用次级离子质谱法(SIMS)测量溅射深度成形界面的宽度

ASTM E1438-1991(2001) 用次级离子质谱法(SIMS)测量溅射深度成形界面的宽度

ASTM E1438-1991(2001) 标准详情

  • 标准号:ASTM E1438-1991(2001)
  • 中文标题:用次级离子质谱法(SIMS)测量溅射深度成形界面的宽度
  • 英文标题:Standard Guide for Measuring Widths of Interfaces in Sputter Depth Profiling Using SIMS
  • 标准类别:美国材料与试验协会ASTM
  • 发布日期:1991

内容简介

1.1 This guide provides the SIMS analyst with a method for determining the width of interfaces from SIMS sputtering data obtained from analyses of layered specimens. This guide does not apply to data obtained from analyses of specimens with thin mark

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