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ASTM E1162-1987(1996) 二次离子质谱法(SIMS)中报告溅射深度截面数据

ASTM E1162-1987(1996) 二次离子质谱法(SIMS)中报告溅射深度截面数据

ASTM E1162-1987(1996) 标准详情

  • 标准号:ASTM E1162-1987(1996)
  • 中文标题:二次离子质谱法(SIMS)中报告溅射深度截面数据
  • 英文标题:Standard Practice for Reporting Sputter Depth Profile Data in Secondary Ion Mass Spectrometry (SIMS)
  • 标准类别:美国材料与试验协会ASTM
  • 发布日期:1987

内容简介

1.1 This practice covers the information needed to describe and report instrumentation, specimen parameters, experimental conditions, and data reduction procedures. SIMS sputter depth profiles can be obtained using a wide variety of primary beam exci

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