SEMI P29-2005 标准详情
- 标准号：SEMI P29-2005
- 中文标题：规格为特点的具体要衰减相移掩膜和口罩空白
- 英文标题：Specification For Characteristics Specific To Attenuated Phase Shift Masks And Masks Blanks
- 标准类别：国际半导体设备与材料协会
- 发布日期：
SEMI P29-2005 规格为特点的具体要衰减相移掩膜和口罩空白
内容简介
Describes the characteristics specific to attenuated phase shift masks and mask blanks. Also details the attenuated phase shift masks and mask blanks for g-line, i-line, KrF, ArF and/or F2 lithography.
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