当前位置:主页国家标准

GB/T 42271-2022 半绝缘碳化硅单晶的电阻率非接触测试方法

GB/T 42271-2022 半绝缘碳化硅单晶的电阻率非接触测试方法

Test method for resistivity of semi-insulating monocrystalline silicon carbide by contactless measurement

GB/T 42271-2022

国家标准推荐性

标准详情

  • 标准名称:半绝缘碳化硅单晶的电阻率非接触测试方法
  • 标准号:GB/T 42271-2022
    中国标准分类号:H21
  • 发布日期:2022-12-30
    国际标准分类号:77.040
  • 实施日期:2023-04-01
    技术归口:全国半导体设备和材料标准化技术委员会
  • 代替标准:
    批准发布部门:国家标准化管理委员会
  • 标准分类:冶金金属材料试验

内容简介

国家标准《半绝缘碳化硅单晶的电阻率非接触测试方法》由TC203(全国半导体设备和材料标准化技术委员会)归口,TC203SC2(全国半导体设备和材料标准化技术委员会材料分会)执行,主管部门为国家标准化管理委员会。本文件描述了半绝缘碳化硅单晶的电阻率非接触测试方法。 本文件适用于测量电阻率范围为 1×10 5 Ω·cm~1×1012Ω·cm的半绝缘碳化硅单晶片。

起草单位

北京天科合达半导体股份有限公司、安徽长飞先进半导体有限公司、中国电子科技集团公司第四十六研究所、中关村天合宽禁带半导体技术创新联盟、有色金属技术经济研究院有限责任公司、

起草人

彭同华、佘宗静、李素青、王波、刘立娜、王大军、张贺、杨建、袁松、

相近标准

SJ/T11488-2015半绝缘砷化镓电阻率、霍尔系数和迁移率测试方法SJ/T11499-2015碳化硅单晶电学性能的测试方法SJ/T11500-2015碳化硅单晶晶向的测试方法SJ/T11501-2015碳化硅单晶晶型的测试方法SJ/T11487-2015半绝缘半导体晶片电阻率的无接触测量方法SJ/T11504-2015碳化硅单晶抛光片表面质量的测试方法SJ/T11503-2015碳化硅单晶抛光片表面粗糙度的测试方法GB/T41765-2022碳化硅单晶位错密度的测试方法GB/T30866-2014碳化硅单晶片直径测试方法GB/T32278-2015碳化硅单晶片平整度测试方法

* 特别声明:资源收集自网络或用户上传,本网站所提供的电子文本仅供参考,请以正式出版物为准。电子文本仅供个人标准化学习、研究使用,不得复制、发行、汇编、翻译或网络传播等。如有侵权,请及时联系我们!

相关推荐