GB/T 42263-2022 硅单晶中氮含量的测定 二次离子质谱法
Determination of nitrogen content in silicon single crystal—Secondary ion mass spectrometry method
内容简介
国家标准《硅单晶中氮含量的测定 二次离子质谱法》由TC203（全国半导体设备和材料标准化技术委员会）归口，TC203SC2（全国半导体设备和材料标准化技术委员会材料分会）执行，主管部门为国家标准化管理委员会。本文件描述了硅单晶中氮含量的二次离子质谱测试方法。本文件适用于硼、锑、砷、磷的掺杂浓度小于1×1020 cm-3（0.2%）的硅单晶中氮含量的测定，测定范围不小于1×1014 cm-3。注： 硅单晶中氮含量以每立方厘米中的原子数计。
起草单位
中国电子科技集团公司第四十六研究所、有色金属技术经济研究院有限责任公司、
起草人
马农农、何友琴、刘立娜、何烜坤、李素青、陈潇、
相近标准
GB/T41153-2021碳化硅单晶中硼、铝、氮杂质含量的测定二次离子质谱法SJ/T11493-2015硅衬底中氮浓度的二次离子质谱测量方法20213462-T-607洗涤剂中磷含量的测定电感耦合等离子体质谱法YB/T4779-2019钒氮合金氮含量的测定脉冲加热惰气熔融-飞行时间质谱法（常规法）GB/T39144-2020氮化镓材料中镁含量的测定二次离子质谱法SN/T3828-2014进出口化妆品中锑含量的测定电感耦合等离子体质谱法SN/T0840-1999进出口尿素中氮含量的测定SN/T0840-2015进出口尿素中氮含量的测定SN/T2484-2010精油中砷、钡、铋、镉、铬、汞、铅、锑含量的测定方法电感耦合等离子体质谱法NY/T4313-2023沼液中砷、镉、铅、铬、铜、锌元素含量的测定微波消解-电感耦合等离子体质谱法
* 特别声明：资源收集自网络或用户上传，本网站所提供的电子文本仅供参考，请以正式出版物为准。电子文本仅供个人标准化学习、研究使用，不得复制、发行、汇编、翻译或网络传播等。如有侵权，请及时联系我们！