YS/T 1053-2015 电子薄膜用高纯钴靶材
内容简介
行业标准《电子薄膜用高纯钴靶材》由全国有色金属标准化技术委员会归口上报，主管部门为工业和信息化部。本标准规定了电子薄膜用高纯钴靶材的要求、试验方法、检验规则和标志、包装、运输、贮存、质量证明书及订货单(或合同)内容。本标准适用于电子薄膜制造用的各类高纯钴靶。
起草单位
宁波江丰电子材料股份有限公司、有研亿金新材料有限公司、
起草人
王学泽、李勇军、郑文翔、
相近标准
YS/T819-2012电子薄膜用高纯铜溅射靶材YS/T893-2013电子薄膜用高纯钛溅射靶材20110426-T-610电子薄膜用高纯铝及铝合金溅射靶材YS/T1025-2015电子薄膜用高纯钨及钨合金溅射靶材GB/T29658-2013电子薄膜用高纯铝及铝合金溅射靶材YS/T935-2013电子薄膜用高纯金属溅射靶材纯度等级及杂质含量分析和报告标准指南高纯镍靶材20220333-T-610高纯镍靶材DB15/T2258—2021谷子种子薄膜包衣技术规程集成电路用高纯铜合金靶材
* 特别声明：资源收集自网络或用户上传，本网站所提供的电子文本仅供参考，请以正式出版物为准。电子文本仅供个人标准化学习、研究使用，不得复制、发行、汇编、翻译或网络传播等。如有侵权，请及时联系我们！
相关推荐
-
现行
-
现行
-
现行
-
现行
-
现行