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SJ/T 11586-2016 半导体器件10KeV低能X射线总剂量辐照试验方法

SJ/T 11586-2016 半导体器件10KeV低能X射线总剂量辐照试验方法

SJ/T 11586-2016

行业标准-电子推荐性

标准详情

  • 标准名称:半导体器件10KeV低能X射线总剂量辐照试验方法
  • 标准号:SJ/T 11586-2016
    中国标准分类号:L40
  • 发布日期:2016-01-15
    国际标准分类号:31.080.01
  • 实施日期:2016-06-01
    技术归口:工业和信息化部电子工业标准化研究院
  • 代替标准:
    批准发布部门:工业和信息化部
  • 标准分类:电子学半导体分立器件电子半导体分立器件综合

内容简介

行业标准《半导体器件10KeV低能X射线总剂量辐照试验方法》由工业和信息化部电子工业标准化研究院归口上报,主管部门为工业和信息化部。本标准规定了使用 X 射线辐射仪(光子平均能量约 10KEV,最大光子能量不超过100KEV)对半导体器件和电路进行电离辐射效应试验的方法和程序。适用于半导体器件的总剂量电离辐照评估试验。

起草单位

工业和信息化部电子第五研究所、

起草人

罗宏伟、何玉娟、恩云飞、

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