GB/T 10118-2023 高纯镓
High purity gallium
内容简介
国家标准《高纯镓》由TC203（全国半导体设备和材料标准化技术委员会）归口，TC203SC2（全国半导体设备和材料标准化技术委员会材料分会）执行，主管部门为国家标准化管理委员会。本文件规定了高纯镓的技术要求、试验方法、检验规则、标志、包装、运输、贮存、随行文件及订货单内容。 本文件适用于纯度不小于99.999 9%的高纯镓的生产、检测及质量评价。 注： 高纯镓主要用于制备化合物半导体、高纯合金以及半导体材料的掺杂等。
起草单位
有研国晶辉新材料有限公司、广东先导微电子科技有限公司、东方电气（乐山）峨半高纯材料有限公司、武汉拓材科技有限公司、株洲科能新材料股份有限公司、朝阳金美镓业有限公司、成都中建材光电材料有限公司、有色金属技术经济研究院有限责任公司、楚雄川至电子材料有限公司、云南锡业新材料有限公司、
起草人
路淑娟、 曹波、 莫杰、 李素青、 吴广杰、 林世源、 钟连兵、 朱君、 曹昌威、 金智宏、 刘晓华、 于洪国、邢志国、尚鹏、汪洋、李佳宣、张磊、卢鹏荐、曾小龙、赵科湘、伍美珍、
相近标准
GB/T10118-2009高纯镓YS/T38.1-1992高纯镓化学分析方法钼蓝分光光度法测定硅量YS/T38.2-1992高纯镓化学分析方法化学光谱法测定锰、镁、铬和锌量YS/T474-2021高纯镓化学分析方法痕量元素的测定电感耦合等离子体质谱法YS/T38.3-1992高纯镓化学分析方法化学光谱法测定铅、镍、锡和铜量YS/T474-2005高纯镓化学分析方法 痕量元素的测定 电感耦合等离子体质谱法YS/T38.1-2009高纯镓化学分析方法第1部分：硅量的测定钼蓝分光光度法YS/T38.3-2023高纯镓化学分析方法第3部分：痕量杂质元素含量的测定辉光放电质谱法YS/T38.2-2009高纯镓化学分析方法第2部分：镁、钛、铬、锰、镍、钴、铜、锌、镉、锡、铅、铋量的测定电感耦合等离子体质谱法
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