标准详情
- 标准名称：宇航用集成电路内引线气相沉积保护膜试验方法
- 标准号：GB/T 43227-2023
- 中国标准分类号：A29
- 发布日期：2023-09-07
- 国际标准分类号：49.040
- 实施日期：2024-01-01
- 技术归口：全国宇航技术及其应用标准化技术委员会
- 代替标准：
- 批准发布部门：国家标准化管理委员会
- 标准分类：航空器和航天器工程有关航空航天制造用镀涂和有关工艺
GB/T 43227-2023 宇航用集成电路内引线气相沉积保护膜试验方法
Test methods for space vapour deposition protective film on semiconductor wire
内容简介
国家标准《宇航用集成电路内引线气相沉积保护膜试验方法》由TC425（全国宇航技术及其应用标准化技术委员会）归口，TC425SC2（全国宇航技术及其应用标准化技术委员会宇航电子分会）执行，主管部门为国家标准化管理委员会。本文件规定了宇航用集成电路内引线采用气相沉积保护膜工艺后的气相沉积保护膜检验方法、电力学环境试验方法。本文件适用于完成气相沉积保护膜的宇航用集成电路的试验。
起草单位
北京微电子技术研究所、中国航天电子技术研究院、
起草人
赵元富、姚全斌、荆林晓、李洪剑、曹燕红、刘思嘉、林鹏荣、冯小成、付明洋、林建京、刘征宇、
相近标准
20214379-T-469宇航用微波集成电路芯片通用规范YB/T100-2016集成电路引线框架用4J42K合金冷轧带材YB/T100-1997集成电路引线框架用4J42K合金冷轧带材GB/T16525-2015半导体集成电路塑料有引线片式载体封装引线框架规范GB/T15876-2015半导体集成电路塑料四面引线扁平封装引线框架规范GB/T38345-2019宇航用半导体集成电路通用设计要求GB/T43228-2023宇航用抗辐射加固集成电路单元库设计要求JC/T2243-2014等离子体增强化学气相沉积工艺用覆膜石英管GB/T43226-2023宇航用半导体集成电路单粒子软错误时域测试方法20214728-T-491空间环境宇航用半导体器件单粒子效应脉冲激光试验方法
* 特别声明：资源收集自网络或用户上传，本网站所提供的电子文本仅供参考，请以正式出版物为准。电子文本仅供个人标准化学习、研究使用，不得复制、发行、汇编、翻译或网络传播等。如有侵权，请及时联系我们！