T/GVS 002-2021 高精度磁控溅射镀膜设备通用技术要求

内容简介

本文件规定了高精度磁控溅射镀膜设备的术语和定义、组成、技术要求、试验方法、检验规则、标志、包装、运输和贮存
本文件适用于极限压力在10-5Pa～10-3Pa范围的高精度磁控溅射镀膜设备（以下简称“设备”）
规定了高精度磁控溅射镀膜设备的术语和定义、组成、技术要求、试验方法、检验规则、标志、包装、运输和贮存。适用于极限压力在10-5Pa～10-3Pa范围的高精度磁控溅射镀膜设备（以下简称“设备”）。